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  • 磷化铟单晶基片_InP晶体基片_众铂材料
    2017-05-22 17:33  点击:65
    规格:根据客户需求
    包装:根据用户规格需求进行生产和包装!
    用户:实验室,科研单位
         保定众铂材料,高端实验室材料生产、研发、销售的综合贸易公司。专业定制生产各类市面稀缺材料。众铂始终本着服务为基,质量为本的发展理念,决不让一克问题材料流入客户手中,欢迎广达新老客户放心选购!

        保定众铂商贸有限公司专业销售实验用新材料的及科工贸为一体的国际贸易公司,现提供InP(磷化铟)单晶基片。

        InP 单晶材料作为最重要的化合物半导体材料之一,是生产光通讯中 InP 基激光二极管(LD),发光二极管(LED)和光探测器等的关键材料,这些器件实现了光纤通信中信息的发射、传播、放大、接受等功能。InP 也非常适用于高频器件,如高电子迁移率晶体管(HEMT)和异质结双极晶体管(HBT)等方面由于其本身具有的优越特性,使其在光纤通信、微波、毫米波、抗辐射太阳能电池、异质结晶体管等许多高技术领域有广泛的应用. InP 单晶材料的主要生长方法,包括传统液封直拉技术(LEC)、改进的 LEC 技术、气压控制直拉技术(VCZ/PCLEC/垂直梯度凝固技术(VGF/垂直布里奇曼技术(VB)等。

    主要性能参数

    1.单晶InP 掺杂本征 导电类型N 载流子浓度cm-3:(0.4-2*1016迁移率(cm2/V.s):(3.5-4*103位错密度(cm-2)5*104 标准基片Φ 2″×0.35mmΦ 3″×0.35mm

    2.单晶InP 掺杂S 导电类型N 载流子浓度cm-3:(0.8-3*1018迁移率(cm2/V.s):(2.0-2.4*103位错密度(cm-2)3*104 标准基片Φ 2″×0.35mmΦ 3″×0.35mm

    3.单晶InP 掺杂Zn 导电类型P 载流子浓度cm-3:(0.6-2*1018迁移率(cm2/V.s)70-90位错密度(cm-2)2*104 标准基片Φ 2″×0.35mmΦ 3″×0.35mm

    4.单晶InP 掺杂Fe 导电类型N 载流子浓度cm-3107-108迁移率(cm2/V.s)2000位错密度(cm-2)3*104 标准基片Φ 2″×0.35mmΦ 3″×0.35mm

    尺寸(mm:Dia50.8x0.35mm,10×10×0.35mm10×5×0.35mm 可按照客户需求,定制特

    殊方向和尺寸的衬底

    表面粗糙度 Surface roughness(Ra):<=5A可提供原子粒显微镜(AFM)检测报告

    抛光:单面或双面

    包装:100 级洁净袋,1000 级超净室

        我公司始终秉承合理的价格,优质的质量,完善的服务,欢迎广大学者,实验科研人员来我公司交流合作,您的满意就是支撑我们的动力。

    联系方式
    公司:保定众铂商贸有限公司
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    姓名:李强跟(先生)
    职位:经理
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