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  • 甲醇管道清洗甲醇装置清洗甲醇清储罐洗蓝昌供
    2016-09-27 16:21  点击:22

    甲醇管道清洗甲醇装置清洗甲醇清储罐洗蓝昌供

    清洗方法: 

    目 的:

    1 生产过程中,由于存在原料的残留,因此在连续生产一段时间后及更换品种时极易造成微量污染,主要污染来自设备清洁不彻底,因此制定切实可行的设备清洁操作 程序并按该程序进行清洁后,设备上的残留物(可见的与不可见的,包括前一批次或前一品种的残留物及清洗过程中的残留溶剂)达到了规定的清洁限度要求,不会 对将生产的产品造成交叉污染,以保证产品的质量。

    2 为再验证提供数据资料。

    范 围:

    适用于以下设备、容器具的清洁验证

    工程设备部负责验证过程中设备的正常运行,对设备和设备系统的取样和操作提供帮 助。人力资源部负责对验证相关人员组织培训。生技部负责负责指派生产人员按对应设备相应的设备清洁操作规程,对设备进行清洁,确保清洁操作满足规范要求, 为验证操作及取样提供帮助。质量部负责组织起草验证方案并组织相关部门、人员实施验证。

    内 容:

    1、 验证领导小组成员

    主要职责:

    对验证实施小组起草的验证方案进行审核与批准,领导验证实施小组对批准的经培训的验证方案进行实施,并对实施过程进行监督管理。验证结束阶段,对验证结果进行临时批准。 2、 验证实施小组成员

    主要职责:

    起草验证方案,提交验证领导小组审核批准后,由人力资源部人员组织,对各相关部 门人员进行培训。培训考核合格后,验证实施小组对验证方案进行组织实施。详细记录验证实施过程中进行的取样、分析检测过程及发生的偏差的调查处理过程。验 证结束阶段,对验证数据进行统计分析,填写验证报告,并提交验证领导小组,对验证结果进行临时审核批准。 2、验证计划

    2.1

    生产过程中,生产完OMM后,按设备清洁操作规程对设备进行清洁并实施验证。 2.2验证时间:与生产时同步进行,记录连续三次清洁检测结果 3、验证内容: 3.1验证所需文件 ___________________________________________________________________________________________________

    3.2 验证方法 3.2.1需验证的关键部位

    脱色釜内壁、底阀;暂存釜的内壁、底阀;结晶釜的内壁、底阀;压滤器内壁、压滤管道;三合一(内壁、底部);粉碎机(内壁、底部)。

    3.2.2原理:首先从考虑活性成份的无明显影响值入手,经过科学计算确定化学清洗大 允许残留物浓度限度。按设备清洁操作规程进行清洁后,用棉签对设备表面残留物擦拭取样,然后对棉签溶样和冲 洗水样进行残留物(紫外分光光度法)检测和微生物限度检查,将所得结果与可接受限度比较,若不高于残留物浓度且细菌总数符合要求,则可证实清洁程序的有效 性。

    OMM在2.5%的NaOH溶液中易溶,且清洁剂2.5%的NaOH溶液的残留 对人体无害,所以本次验证所用的清洗液2.5%的NaOH溶液。在OMM生产结束后用2.5%的NaOH溶液作为清洗液,本次精制所用设备的材质均为不锈 钢,所以擦拭法模具用10cm×10cm不锈钢板。

    3.3 可接受标准

    3.3.1目测检查:清洁后的设备内外表面无可见残留物。 3.3.2 化学残留可接受限度:

    TDD前×MBS

    MACO=??????????=20*100*1000/60*1000

    TDD后×SF

    MACO:化学清洗大允许残留量

    TDD前:前面品种的化学清洗低日治剂量 TDD后:后续品种的化学清洗大日治剂量 MBS:后续品种的化学清洗小批量

    SF:蓝昌因子(在TDD的基础上通常用1000来计算) 3.3.2.1 ******,化学清洗大允许残留量为: 20mg×100×1000g

    MACO1=?????????? = 33.3g 60?×1000 物料接触设备的总面积如下:

    根据计算结果,OMM化学清洗大允许残留量为33.3g,生产中物料接触设备的总面积为70.6m2,按33.3g OMM平均分配到各个设备表面,其残留限量分别为:

    a.擦拭测试:擦拭面积以10?×10?的区域计

    33.3g×1000

    残留限量A=??????????×100?2×10%(保险系数)×70%(取样回收率)=

    70.6m2×10000

    0.33?/100?2

    b.清洗液测试:脱色釜加入400L的2.5%的NaOH溶液,开启搅拌,加热升温回流压滤至暂存釜、三合一设备、粉碎机、周转桶,化学清洗后用400L纯化水冲洗,其中溶液中的残留限量

    33.3g×1000

    浓度限量B=??????---?×10%(保险系数)=0.083?/ml

    400L×1000

    3.3.3微生物残留可接受标准:清洗的微生物验证应和清洗的化学验证同步验证,菌落数≤50个/棉签。

    3.4 清洁程序

    3.4.1按《压滤器清洁规程》、《粉碎机清洁规程》、《OMM车间三合一设备清洁规程》/《OMM车间洁净区容器具清洁规程》对设备、容器具进行清洁。

    3.4.2 干燥 清洗结束后,脱色釜、暂存釜用夹套蒸汽加热至干,压滤器、粉碎机、周转桶自然晾干;三合一加热烘干。

    3.4.3 检查 清洗结束后有QA负责检查,内容包括:

    3.4.3.1 清洗是否严格按照规定的清洁规程进行清洁,并检查其清洁记录。

    3.4.3.2 设备清洗后是否有“已清洁”的状态标志。

    3.4.3.3 目测检查设备内外表面干燥洁净,尤其应检查上釜盖内壁、釜底阀、粉碎机、三合一设备内壁等难清洗的部位。

    3.4.3.4 检查完成后,在清洗检查记录上签名认可。 3.5 取样及检测方法 3.5.1 取样方法

    3.5.1.1

    表面取样:药签擦拭法(压滤器、周转桶),取样面积:10cm×10cm(用不 锈钢片制作一个内径为10cm×10cm的模具)。将不锈钢片贴于设备表面,在其内径上用蘸有2.5%的NaOH溶液的棉签平稳而缓慢的擦拭,在向前移动 的同时,将其从一边移动到另一边。翻转药签,让药签的另一面也进行擦拭,与前次擦拭移动方向垂直,擦拭过程应覆盖整个表面(擦拭示意图见下图), 重复擦拭三次。擦拭完后,用

    25ml2.5%的NaOH溶液将3个棉签上的样品溶出25ml

    溶出液,并及时贴上标签,标明取样日期。

    图一.擦拭法取样示意图

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    图二.对压滤器、周转桶擦拭法取样,取样点示意图

    代表设备(开口朝上)代表取样模具(10cm×10cm)

    3.5.1.2 洗淋水取样(釜类设备、管道):在清洗进行到化学清洗终洗淋将结束时,提前通知化验 室准备好干燥好的锥形瓶(500ml)备用,按3.3.2中b方法取溶出液作为检验用样品。(取样记录见附件)

    3.5.1.3 微生物限度取样:参照3.5.1.1方法,用已去除细菌含有生理盐水的棉签擦拭设备25cm2区域面积。应先对镊子、棉签进行去除细菌,用镊子取棉签在无菌生理盐水中湿润,用4个棉签共擦拭100cm2。(取样记录见附件)

    3.5.2 检测方法

    3.5.2.1 目测检查:按照《设备清洁规程》进行清洁后,立即进行目测检视,设备内、外表面应无可见残留物。

    3.5.2.2 化学残留量检测 3.5.2.2.1 擦拭法检测 3.5.2.2.1.1

    精确量取药签溶出液20.0ml置25ml比色管中,作为供试品溶液;精密称取 OMM对照品0.013g(精确至0.0002g),置1000ml的容量瓶中用2.5%的NaOH溶液并稀释至刻度,从中取20mlOMM溶液置 25ml比色管中,作为对照溶液。在276nm的波长处测定吸光度,供试品溶液的吸光度不得大于对照品溶液的吸光度。(检测记录见附件)

    3.5.2.2.2洗淋液样品检测 3.5.2.2.2.1

    精确取洗淋液20ml置25ml比色管中,作为供试品溶液;精密称取OMM对照 品0.083g(精确至0.0002g),置1000ml的容量瓶中用2.5%的NaOH溶液溶解并稀释至刻度,取20mlOMM溶液置25ml比色管 中,作为对照溶液。在276nm的波长处测定吸光度,供试品溶液的吸光度不得大于对照品溶液的吸光度。(检测记录见附件)

    3.5.2.3微生物残留检测:将取样后的4个棉签放于无菌生理盐水20ml中,用超声波洗涤2

    分钟,取洗涤水进行微生物限度检查。用琼脂培养基倒入培养皿中。取棉签洗涤水0.1ml均匀涂布在每个培养皿的培养基上,各接种10个培养皿,30-37℃培养48小时,观察菌落数。将每个培养皿菌落总数相加,每个棉签菌落数=菌落物总和×总体积/4。(检测记录见附件)

    3.6 取样回收率

    3.6.1OMM残留取样回收率

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    精密称取OMM0.047g(精确至0.0002g),置1000ml容量瓶 中,用2.5%的NaOH溶解稀释至刻度,做为对照品溶液;精密称取OMM0.033g(精确至0.0002g),置1000ml容量瓶中,用2.5%的 NaOH溶解稀释至刻度,从中量取10mlOMM溶液将其均匀喷洒于100?2(10cm×10cm)的清洁干燥的不锈钢平板上,挥干水分后,用棉球蘸纯 化水按3.5.1.1擦拭取样方法取样后继续定容至20ml,在276nm的波长处测定OMM的吸光度,并按下式计算回收率, 回收率应不低于70%。 测定六次,六次的相对标准偏差RSD%不得大于5.0%。 As 回收率 = —?????×全部

    Ar

    式中:As——供试溶液中OMM吸光度;

    Ar——对照溶液中OMM吸光度;

    3.7样品检测方法(紫外分光光度法)

    本次验证根据OMM在276nm处有化学清洗大吸收采用紫外分光光度法对样品残留进行检测,对紫外分光光度法的线性范围进行验证。

    按确认的样品残留浓度为0.083mg/ml,首先精密称量 0.083gOMM(精确至0.0002g)放在100ml容量瓶中,用2.5%的NaOH溶解溶解稀释至刻度,作为1000%对照溶液,用对照溶液再配 制120%、100%、80%、60%、40%和20%的各对照品混合溶液,包括范围的化学清洗高点和化学清洗低点以及标准点。从对照品混合溶液各盛入1cm吸收池 中,在276nm测定吸收度。以吸收度对浓度(mg/ml)回归,得到回归方程和相关系数,计算得相关系数≥0.99。

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    溶液一:精密吸取12ml于一100ml容量瓶中,用2.5%的NaOH溶解溶解并稀释至刻度,混匀,即得(OMM溶液0.096mg/ml)。

    溶液二:精密吸取10ml于一100ml容量瓶中,用2.5%的NaOH溶解溶解并稀释至刻度,混匀,即得(OMM溶液0.083mg/ml)。

    溶液三:精密吸取8ml于一100ml容量瓶中,用2.5%的NaOH溶解溶解并稀释至刻度,混匀,即得(OMM溶液0.064mg/ml)。

    溶液四:精密吸取6ml于一100ml容量瓶中,用纯化水溶解并稀释至刻度,混匀,即得(OMM溶液0.050mg/ml)。

    溶液五:精密吸取4ml于一100ml容量瓶中,用2.5%的NaOH溶解溶解并稀释至刻度,混匀,即得(OMM溶液0.032mg/ml)。

    溶液六:精密吸取2ml于一100ml容量瓶中,用2.5%的NaOH溶解溶解并稀释至刻度,混匀,即得(OMM溶液0.017mg/ml)。

    数据见下表 OMM残留溶液线性

    结论:

    4、清洁有效期的评价:

    在实施大清洁后,在8天后对已清洁的设备用擦拭法取样,进行微生物限度检查,按3.5.2.3项 下检测,如果菌落数≤50个/棉签(25cm2)则清洁有限期定为7天有效。(检验记录见附件)

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    5、验证结果及评价与建议(由验证小组根据验证结果进行评定并给出结论)。

    6、验证结果的临时批准:

    7、偏差处理

    8、在出现以下情况时应对设备进行清洁验证 8.1 新设备使用前;

    8.2 新产品进行工艺验证的同时; 8.3 更换产品之前;

    8.4 清洗的方法发生重大变化; 8.5 对清洁程序监控的数据有负面趋势。


    结论:

    4、清洁有效期的评价:

    在实施大清洁后,在8天后对已清洁的设备用擦拭法取样,进行微生物限度检查,按3.5.2.3项 下检测,如果菌落数≤50个/棉签(25cm2)则清洁有限期定为7天有效。(检验记录见附件)

    第8 / 9页

    5、验证结果及评价与建议(由验证小组根据验证结果进行评定并给出结论)。

    6、验证结果的临时批准:

    7、偏差处理

    8、在出现以下情况时应对设备进行清洁验证 8.1 新设备使用前;

    8.2 新产品进行工艺验证的同时; 8.3 更换产品之前;

    8.4 清洗的方法发生重大变化; 8.5 对清洁程序监控的数据有负面趋势。

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